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- 三星和韓國掩模制造商S&S Tech共同申請EUV薄膜專利
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- 俄羅斯公布EUV光刻機(jī)路線圖，采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機(jī)路線圖：2036年實現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
- 臺積電重磅調(diào)整：老舊8英寸晶圓廠轉(zhuǎn)產(chǎn)EUV掩模保護(hù)膜
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- SK海力士引進(jìn)存儲器業(yè)界首臺量產(chǎn)型High NA EUV設(shè)備
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- 英特爾：ASML首批兩臺High-NAEUV設(shè)備已投產(chǎn)
