- EUV光刻機(jī)有多難？我們研發(fā)了20多年，才剛摸到門檻
- 售價(jià)超10億 ASML新款EUV光刻機(jī)年底出貨：2nm離不了
- 說一個(gè)事實(shí)：就算我們買到EUV光刻機(jī)，也制造不了7nm芯片
- ASML和IMEC合力推進(jìn)high-NA EUV光刻技術(shù)試驗(yàn)線
- ASML放狠話：一個(gè)國家生產(chǎn)出EUV光刻機(jī)，沒戲！
- EUV光刻機(jī)，ASML技術(shù)占20%，另外80%是美、德、日、英提供
- 國產(chǎn)光刻膠自給率現(xiàn)狀：EUV為0%，ArF為1%，KrF為5%
- 沒有技術(shù)封鎖，為何日本尼康、佳能也造不出EUV光刻機(jī)？
- EUV光刻機(jī)不斷突破？不能量產(chǎn)，都是紙上談兵，沒有用的
- 華裔科學(xué)家大突破：不要EUV光刻機(jī)，讓1nm以下的芯片自己長出來
