如果大家關(guān)注光刻機(jī)的消息，會(huì)發(fā)現(xiàn)網(wǎng)上各種光刻機(jī)突破，今天這家公司突破了，明天那家公司突破了，甚至是打破ASML的壟斷等等……

也許都是網(wǎng)友們?cè)谧脏耍苍S是真的突破，也不排除網(wǎng)友們?cè)趤y吹牛，亂沸騰。反正按照網(wǎng)上曝光的各種消息來(lái)看，國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)似乎都量產(chǎn)了N年了，因?yàn)楦鞣N突破，都比ASML技術(shù)更厲害一樣，屬于頂尖技術(shù)。

但時(shí)至今日呢？我們對(duì)外公開(kāi)的光刻機(jī)精度，依然是90nm，連浸潤(rùn)式光刻機(jī)都造不出來(lái)，至于EUV光刻機(jī)，那就更別說(shuō)了，可能在夢(mèng)里吧。

說(shuō)真的，我不是要潑冷水，我只是覺(jué)得不能量產(chǎn)的各種光刻機(jī)突破，都是紙上談兵，沒(méi)有用，除了可以自嗨。

一臺(tái)光刻機(jī)的研發(fā)，從提出原理，再到生產(chǎn)原型機(jī)，最后到量產(chǎn)，再到交付實(shí)際使用，最終實(shí)現(xiàn)高良率，這條路是非常漫長(zhǎng)的。

ASML的EUV光刻機(jī)，最開(kāi)始是美國(guó)等幾大廠商一起研究，提出原理進(jìn)行驗(yàn)證，然后難證后，再交給ASML來(lái)制造。

從提出原理，到2006年ASML交付第一臺(tái)EUV原型光刻機(jī)，實(shí)際經(jīng)過(guò)了10多年。但ASML的第一代光刻機(jī)Alpha EUV，都是用于測(cè)試。

而到2010年才推出第二代EUV光刻機(jī)，型號(hào)是NXE:3100，還是用于測(cè)試。直到2013年ASML才真正推出了量產(chǎn)型號(hào)NEX:3300B。

可見(jiàn)，從原型機(jī)推出，到最后能規(guī)模量產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，ASML都搞了7年，足見(jiàn)從理論到實(shí)際，需要的時(shí)間有多久了。

所以，目前時(shí)不時(shí)冒出來(lái)的什么光刻機(jī)突破，什么EUV光線突破，有多么的不靠譜。就算是靠譜的突破，從理論到真正實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，可能也是10年甚至更久之后的事情去了。

所以，我覺(jué)得，大家別自嗨，謹(jǐn)慎看待目前網(wǎng)上流傳的各種五花八門的關(guān)于什么EUV光刻機(jī)突破的消息，靠不靠譜還兩說(shuō)，就算靠譜，也是短時(shí)間之內(nèi)無(wú)法量產(chǎn)，先別激動(dòng)。

當(dāng)然，我不是說(shuō)這些突破就不需要了，畢竟任何產(chǎn)品都是從理論開(kāi)始的，但這中間需要一個(gè)極長(zhǎng)的過(guò)程，先別吹牛，慢慢把基礎(chǔ)打扎實(shí)了再說(shuō)。