- 不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機(jī)，我們也無法順利制造7nm芯片
- 一臺(tái)EUV光刻機(jī)，年耗電1000萬度，臺(tái)積電也要心痛電費(fèi)
- ASML的哀愁：EUV光刻機(jī)將不再是制造高端芯片的唯一選擇
- 多條重磅消息傳出，ASML的EUV光刻機(jī)時(shí)代正在落幕
- 中國(guó)研發(fā)石墨烯芯片，替代硅基芯片，就不需要EUV光刻機(jī)了？
- 華為公布一項(xiàng)EUV光刻新專利
- 怕被市場(chǎng)拋棄，ASML急著擴(kuò)大產(chǎn)能，EUV光刻機(jī)提升210%
- 不再需要EUV光刻機(jī) 國(guó)內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線明年落地
- ASML壓力山大：EUV光刻機(jī)，到2nm時(shí)或走到盡頭，壟斷不再
- 挑戰(zhàn)ASML的EUV光刻機(jī)：美國(guó)采用電子束，俄羅斯采用X射線
