- 美媒：EUV光刻機(jī)時代開始“落幕”了
- ASML壓力山大，全球都想繞過EUV光刻機(jī)，來制造芯片
- 很遺憾，三種EUV光刻機(jī)替代方案，中國都表現(xiàn)不突出
- 給中國樹立榜樣：被日本制裁后，韓國3年量產(chǎn)EUV光刻膠
- 不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機(jī)，我們也無法順利制造7nm芯片
- 一臺EUV光刻機(jī)，年耗電1000萬度，臺積電也要心痛電費
- ASML的哀愁：EUV光刻機(jī)將不再是制造高端芯片的唯一選擇
- 多條重磅消息傳出，ASML的EUV光刻機(jī)時代正在落幕
- 中國研發(fā)石墨烯芯片，替代硅基芯片，就不需要EUV光刻機(jī)了？
- 華為公布一項EUV光刻新專利
