- SK 海力士：采用 EUV 技術(shù)的第四代 10 納米級 DRAM 開始量產(chǎn)
- 三星電子已決定在得克薩斯州奧斯汀建設(shè) EUV 晶圓廠
- ASML 將赴韓國EUV設(shè)備再制廠及培訓(xùn)中心，預(yù)計在 2025 年完成建設(shè)
- ASML 將于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防護(hù)膜，提高光刻機(jī)效率
- 芯華章完成超4億元Pre-B輪融資 加速新一代EDA技術(shù)研發(fā)；ASML開始供應(yīng)透射率超過90%薄片的EUV系統(tǒng)
- 日本富士膠片或啟動EUV光刻膠業(yè)務(wù)，希望在2024年之前獲得10%市占
