2022年，中國(guó)從ASML進(jìn)口了約200億元的光刻機(jī)，當(dāng)時(shí)很多人稱，形勢(shì)還是較為嚴(yán)峻的，我們對(duì)ASML的依賴太大了，要努力提高國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的供應(yīng)。

而2023年，我們從ASML進(jìn)口了600億元的光刻機(jī)，較2022年增加了2倍，形勢(shì)更為嚴(yán)峻了。

誰(shuí)知道2024年1-2月，就更加夸張了，海關(guān)數(shù)據(jù)顯示，我們向ASML進(jìn)口了32臺(tái)光刻機(jī)，進(jìn)口金額高達(dá)10.57億美元（約76億人民幣），增長(zhǎng)256%。

為何我們依然要從ASML進(jìn)口這么多光刻機(jī)？原因當(dāng)然是國(guó)內(nèi)需要這么多，國(guó)內(nèi)供應(yīng)不了，只有從ASML進(jìn)口。

如下圖所示，這是當(dāng)前光刻機(jī)的工藝情況，可以看到只有ASML才擁有超高端、高端、中端等各種光刻機(jī)，覆蓋3nm至其它所有工藝。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，還處于90nm階段，肯定是無(wú)法滿足國(guó)內(nèi)的需求的。

而最近幾年，國(guó)內(nèi)在大規(guī)模的新建晶圓廠，按照媒體的報(bào)道，我們目前計(jì)劃在建的晶圓廠就高達(dá)22座，都是要在最近3年內(nèi)投產(chǎn)。

而這些晶圓廠，較大部分是制造28nm-90nm之間的芯片，這樣的工藝，國(guó)內(nèi)的光刻機(jī)支撐不了，所以不得不從ASML進(jìn)口光刻機(jī)。

如下圖所示，這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備能夠支撐的工藝情況，上面標(biāo)注的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)是65nm，其它大多到了28nm、14nm，甚至5nm，先進(jìn)很多。

從這些情況以及數(shù)據(jù)來(lái)看，我們的光刻機(jī)供應(yīng)依然非常嚴(yán)峻，美國(guó)目前只斷了最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，斷了較為先進(jìn)的高端一點(diǎn)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，對(duì)于普通的DUV光刻機(jī)還沒(méi)有斷供。

但我們不防想一想，如果美國(guó)對(duì)普通DUV光刻機(jī)也出手，不賣給我們了，那我們?cè)趺崔k？國(guó)外的買不到，國(guó)內(nèi)的技術(shù)支撐不了，那就真的麻煩了，成熟工藝都會(huì)陷入困境。

所以國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，必須努力才行，已經(jīng)嚴(yán)重制約中國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展了，成為了最短的那一塊短板了，不說(shuō)領(lǐng)先多少，至少要達(dá)到主流國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備的水準(zhǔn)才行。