眾所周知，當芯片工藝進入7nm后，就需要用到一種光刻機，叫做EUV光刻機（極紫外線光刻機），采用的是13．5nm的紫外線光源。

而DUV光刻機，主要采用的是193nm的光源，理論上可以經多重曝光后用到7nm，但實際沒有廠商這么干，因為多重曝光良率大幅度降低，成本非常高，且不可控。

而EUV光刻機，只有ASML一家廠商能生產，所以任何芯片廠商，想要生產7nm及以下的芯片，就得找ASML買光刻機。

而ASML在2015年推出第一代EUV光刻機WINSCAN NXE：3400B之后，就一直是各大想生產7nm及以下芯片廠商爭搶的對象。特別是臺積電、三星、intel這三大廠商，誰能最先、最快、最多買到EUV光刻機，誰就有了優(yōu)勢和底氣。

之前中芯國際在2018年也找ASML訂購了一臺EUV光刻機，不過4年過去了，依然沒拿到貨，因為美國不允許ASML賣EUV光刻機給我們。

而在這4年之中，ASML的EUV光刻機也升級了2代，2019年從NXE：3400B升級到NXE：3400C，再2021年升級為NXE：3600D，這三代光刻機的數(shù)值孔徑為0．33，提升的更多是處理速度上面。

而現(xiàn)在ASML再次推出新一代EUV光刻機，這次將數(shù)值孔徑提升到了0．55，而型號有兩種，分別是EXE：5000和EXE：5200，相比于上一代EUV光刻機，可以將芯片縮小1．7倍、同時密度增加2．9倍，全面支持2nm及以下芯片，乃至埃米級工藝節(jié)點。

按照ASML的說法，目前intel已經簽訂了一筆EXE：5200的訂單，而EXE：5200系統(tǒng)的成本將顯著超過3．4億美元（約22億人民幣）。

intel為何搶先下訂單，當然是想在2nm芯片的爭霸賽中占到先機，更希望能夠比臺積電、三星更領先，畢竟英特爾一直表示要重新提振美國的芯片制造業(yè)。

這22億元的價格，估計也就只有intel、三星、臺積電買得起了吧，其它的代工廠，估計都難得買得起了，真的是太貴了。