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英特爾CEO痛斥臺(tái)積電、三星不公平競(jìng)爭(zhēng)

2021-12-03 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理
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關(guān)鍵詞: 英特爾 CEO 臺(tái)積電 三星 基辛格

北京時(shí)間12月2日消息,英特爾公司CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)周三表示,美國(guó)應(yīng)該加大對(duì)美國(guó)芯片制造商的投資,而不是臺(tái)積電和三星電子等亞洲競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。他還表示,美國(guó)本土公司將為美國(guó)提供更多知識(shí)產(chǎn)權(quán)控制權(quán)。

基辛格2月份上任Intel CEO之后,他推出的第一個(gè)重要戰(zhàn)略就是IDM 2.0,斥資200億美元建設(shè)新的晶圓廠,為的是跟三星、臺(tái)積電搶市場(chǎng),現(xiàn)在基辛格更是在媒體上表示這兩家公司競(jìng)爭(zhēng)并不公平。

在最新的采訪中,基辛格再次談到了這個(gè)問(wèn)題,指出臺(tái)積電及三星得到了當(dāng)?shù)卣哌_(dá)30-40%的補(bǔ)貼,Intel實(shí)際上并不是跟(公平的)上市公司競(jìng)爭(zhēng),而是跟臺(tái)積電三星本土競(jìng)爭(zhēng)。

此前,臺(tái)積電和三星均已宣布在美國(guó)設(shè)廠。臺(tái)積電將斥資120億美元在美國(guó)亞利桑那州建廠,預(yù)計(jì)2024年完工。三星電子日前也宣布,將在美國(guó)得州泰勒市建造一座新的先進(jìn)芯片制造工廠。這座工廠耗資大約170億美元,將創(chuàng)造2000個(gè)工作崗位。



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