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英飛凌:碳化硅、氮化鎵功率元件 5 年內(nèi)成本將逐步降低

2021-08-10 來源:中電網(wǎng)
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關(guān)鍵詞: 英飛凌 碳化硅 氮化鎵

根據(jù) Digitimes 報(bào)道,半導(dǎo)體廠商英飛凌大中華區(qū)電源與感測系統(tǒng)事業(yè)部協(xié)理陳志星日前表示,該公司的 SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)等新材料產(chǎn)品已經(jīng)走入量產(chǎn),未來這類功率芯片的制造從主流的 6 英寸廠轉(zhuǎn)移到 8 英寸晶圓廠生產(chǎn),是國際大廠共同看好的趨勢。

陳志星指出,SiC、GaN 相關(guān)寬能隙 (WBG) 功率元件價(jià)格已經(jīng)出現(xiàn)很大的降幅,但成本仍是打開市場的關(guān)鍵。碳化硅、氮化鎵兩類芯片的價(jià)格差距不大,但是這這兩種產(chǎn)品與單純的 Si 硅產(chǎn)品之間成本差距確實(shí)存在,目前成本還比較高昂。

英飛凌預(yù)測,未來在生產(chǎn)規(guī)模、產(chǎn)能投資、良率控制等方面的共同推進(jìn)下,SiC、GaN 功率元件的成本有望有效下降,預(yù)計(jì) 3~5 年后有機(jī)會把成本降到跟硅基元件相仿的程度,后段制程技術(shù)也持續(xù)推進(jìn)。

英飛凌此前率先使用 12 英寸晶圓工廠生產(chǎn)硅基功率元件,近年來 GaN 氮化鎵芯片隨著手機(jī)、電腦充電器的發(fā)展,得到越來越廣的應(yīng)用,相關(guān)制造技術(shù)也在快速推進(jìn)中。由于 SiC 碳化硅功率元件已經(jīng)問世 20 多年,英飛凌表示,這類芯片以往使用 2、4 英寸晶圓工廠生產(chǎn),現(xiàn)在則轉(zhuǎn)向主流的 6 英寸,未來走向使用 8 英寸廠生產(chǎn)是非常正常的。



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