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FR MOS反向恢復(fù)特性

2025-06-10 來源: 作者:深圳深愛半導(dǎo)體股份有限公司 原創(chuàng)文章
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關(guān)鍵詞: MOSFET 反向恢復(fù)特性 反向恢復(fù)參數(shù) 開關(guān)損耗 電路設(shè)計

      

MOSFET反向恢復(fù)特性是指其內(nèi)部寄生體二極管在從導(dǎo)通狀態(tài)切換到關(guān)斷狀態(tài)時,由于存儲的少數(shù)載流子復(fù)合歸零而產(chǎn)生的瞬態(tài)電流和持續(xù)時間。這一過程直接影響器件的開關(guān)損耗、系統(tǒng)效率及可靠性。

反向恢復(fù)特性的主要參數(shù)為反向恢復(fù)時間(Trr)、反向恢復(fù)電荷(Qrr),反向恢復(fù)電流(Irr)。

反向恢復(fù)時間:從施加反向電壓到反向電流降至某一閾值所需的時間。其又分為存儲時間(Ts)和下降時間(Tf)。Trr越小,器件開關(guān)速度越快,開關(guān)損耗越低。

存儲時間(Ts)少數(shù)載流子被抽出的初始階段,反向電流維持較高值。

下降時間(Tf):反向電流快速衰減至零的階段。

反向恢復(fù)電荷(Qrr):反向恢復(fù)過程中流動的總電荷量,即反向電流對時間的積分。直接決定開關(guān)損耗(Eloss=Qrr*Vreverse),電荷越小損耗越低。

峰值反向恢復(fù)電流(IRM):反向恢復(fù)過程中出現(xiàn)的最大反向電流值。高IRM會導(dǎo)致電壓尖峰和電磁干擾(EMI),需通過電路設(shè)計抑制。

軟度因子(S):下降時間(tf)與存儲時間(ts)的比值( S=tf / ts )。

硬恢復(fù)(S<1):電流驟降,易引發(fā)電壓振蕩和 EMI。

軟恢復(fù)(S>1):電流平緩下降,對電路更友好。

反向恢復(fù)特性直接制約開關(guān)器件的效率與可靠性,理解其參數(shù)(trr、Qrr、IRMS)及物理機制對優(yōu)化電路設(shè)計至關(guān)重要。




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