俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng) Vasily Shpak 表示已研發(fā)成功350納米光刻機(jī)，接下來(lái)是希望在2026年研發(fā)可以支持130納米的光刻機(jī)，這意味著該國(guó)正在打破ASML在光刻機(jī)市場(chǎng)的壟斷。

在全球光刻機(jī)市場(chǎng)，ASML無(wú)疑是老大，占有超過(guò)六成的市場(chǎng)份額，在EUV光刻機(jī)方面更是獨(dú)門生意，全球僅有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。

不過(guò)EUV光刻機(jī)雖然是ASML的獨(dú)門生意，但是為ASML帶來(lái)更多收入的還是DUV光刻機(jī)，ASML也只是預(yù)期未來(lái)EUV光刻機(jī)的產(chǎn)量提升到100臺(tái)，而DUV光刻機(jī)的產(chǎn)量提高到600臺(tái)，可見(jiàn)DUV光刻機(jī)的市場(chǎng)規(guī)模大得多。

在DUV光刻機(jī)方面，其實(shí)并非ASML所獨(dú)有，日本的尼康、佳能等也在生產(chǎn)DUV光刻機(jī)，只不過(guò)日本的光刻機(jī)在浸潤(rùn)式和EUV光刻機(jī)方面落后于ASML，如今佳能則選擇了研發(fā)NIL技術(shù)，繞開EUV光刻機(jī)的限制，據(jù)稱佳能的NIL技術(shù)已得到日本鎧俠和美國(guó)美光的采用。

除了他們之外，中國(guó)其實(shí)也能生產(chǎn)光刻機(jī)，只不過(guò)公開的報(bào)道指出中國(guó)研發(fā)的光刻機(jī)在65納米以上，而中國(guó)正在努力研發(fā)28納米以下的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，浸潤(rùn)式光刻機(jī)可以發(fā)展到7納米工藝。

中國(guó)的芯片制造企業(yè)目前就以浸潤(rùn)式光刻機(jī)研發(fā)接近7納米的工藝，某國(guó)產(chǎn)手機(jī)的5G芯片被認(rèn)為就是以接近7納米的工藝生產(chǎn)，這是國(guó)產(chǎn)芯片的重大進(jìn)步，意味著國(guó)產(chǎn)芯片在先進(jìn)工藝方面取得了重大突破。

業(yè)界人士指出中國(guó)所需求的芯片，7納米以上工藝占七成到九成，中國(guó)如能實(shí)現(xiàn)7納米的大規(guī)模量產(chǎn)，那么國(guó)產(chǎn)芯片的自給率可以大幅提升，而這幾年中國(guó)芯片由于國(guó)產(chǎn)芯片替代，芯片進(jìn)口大幅減少，2023年的芯片進(jìn)口金額較2021年減少了近千億美元。

俄羅斯如今也開始自研光刻機(jī)，在于眾所周知的影響，導(dǎo)致俄羅斯無(wú)法進(jìn)口光刻機(jī)，而推進(jìn)自研光刻機(jī)，如今它實(shí)現(xiàn)自研光刻機(jī)的重大突破，代表著它的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)開始起步。

對(duì)于光刻機(jī)這個(gè)行業(yè)來(lái)說(shuō)，有了起步，后續(xù)可以逐步升級(jí)，光刻機(jī)本身就是一條很長(zhǎng)的產(chǎn)業(yè)鏈，ASML的EUV光刻機(jī)就需要全球5000家企業(yè)協(xié)作生產(chǎn)，俄羅斯實(shí)現(xiàn)自研光刻機(jī)，意味著它已打造了一條完整的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈。

不過(guò)從俄羅斯的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展也可以看出，它的進(jìn)展過(guò)于緩慢了，預(yù)計(jì)到2026年才量產(chǎn)130納米光刻機(jī)，而2026年全球的先進(jìn)工藝將發(fā)展到2納米，俄羅斯的光刻機(jī)發(fā)展無(wú)疑比全球落后太多。

全球的芯片產(chǎn)業(yè)鏈曾經(jīng)強(qiáng)調(diào)自由貿(mào)易，但是卻由于種種原因被打斷，如今各國(guó)都開始發(fā)展自己的芯片產(chǎn)業(yè)鏈，對(duì)全球芯片產(chǎn)業(yè)將產(chǎn)生重要影響，這樣的結(jié)果顯然與自由貿(mào)易相違背，導(dǎo)致如此結(jié)果是某國(guó)造成的，它曾力推自由貿(mào)易，如今卻又強(qiáng)勢(shì)打斷，凸顯出它的強(qiáng)橫和任性。