ASML曾表示全球5納米以下的工藝必需它的EUV光刻機(jī)，誰也無法替代它的地位，然而如今卻有廠商表示可以繞開EUV光刻機(jī)生產(chǎn)先進(jìn)工藝，嚇壞了ASML。

在光刻機(jī)行業(yè)，除了ASML之外，其實(shí)還有日本的尼康和佳能，尼康已研發(fā)成功浸潤式光刻機(jī)，不過它的光刻機(jī)技術(shù)與ASML存在較大差距，這也導(dǎo)致尼康難以與ASML競爭。

佳能則認(rèn)識(shí)到在光刻機(jī)市場已很難與ASML競爭，選擇了另辟蹊徑發(fā)展新的芯片制造設(shè)備，那就是NIL納米壓印技術(shù)，該項(xiàng)技術(shù)在幾年前就已取得突破，并被日本鎧俠用于生產(chǎn)存儲(chǔ)芯片。

不過此前NIL技術(shù)只能用于生產(chǎn)10納米以上的工藝，去年佳能表示量產(chǎn)了10納米的NIL工藝，近期佳能更表示5納米的NIL工藝也已突破，預(yù)計(jì)到2026年實(shí)現(xiàn)2納米的NIL工藝。

相比起采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)5納米以下的先進(jìn)工藝，NIL工藝的成本可以降低三成到五成，越先進(jìn)的工藝成本就比ASML更低，這已獲得了業(yè)界的認(rèn)可，近期SK海力士就采用了NIL工藝，這是日本廠商之外第一家采用佳能NIL設(shè)備。

中國芯片行業(yè)對(duì)此相當(dāng)感興趣，由于ASML受制于美國無法對(duì)中國出售EUV光刻機(jī)，中國芯片行業(yè)一直都在研發(fā)自己的光刻機(jī)，同時(shí)探尋研發(fā)繞開EUV光刻機(jī)芯片制造技術(shù)。

ASML曾聲言即使給中國圖紙，中國也無法生產(chǎn)出光刻機(jī)，然而近期華為推出了一款5G手機(jī)mate60Pro，據(jù)稱采用了國產(chǎn)的浸潤式光刻機(jī)，這是國產(chǎn)芯片制造設(shè)備的重大進(jìn)步。

隨著中國在芯片設(shè)備方面的重大突破，中國在繞開EUV光刻機(jī)的芯片制造技術(shù)上預(yù)計(jì)也將取得重大進(jìn)展，畢竟已有日本的NIL工藝作為指引，可以預(yù)期中國將很快研發(fā)出無需EUV光刻機(jī)的先進(jìn)工藝。

佳能的NIL工藝正在大舉搶占ASML的市場，畢竟它的生產(chǎn)成本更低，在如今美光、三星等存儲(chǔ)芯片業(yè)務(wù)虧損嚴(yán)重的情況下，有助于降低成本的NIL工藝將很快風(fēng)行。

至于最大客戶臺(tái)積電由于3納米工藝表現(xiàn)不佳，它已停止采購EUV光刻機(jī)，還將多臺(tái)生產(chǎn)線上的EUV光刻機(jī)停產(chǎn)；另一大客戶Intel出現(xiàn)巨虧，Intel 4生產(chǎn)線放緩量產(chǎn)，更不會(huì)采購EUV光刻機(jī)。

幾個(gè)大客戶都在減少乃至停止采購，還面臨佳能搶占市場，這讓ASML相當(dāng)擔(dān)憂自己的前景，如此僅剩下的大市場--中國市場就備受ASML關(guān)注，但是正如上述中國在浸潤式光刻機(jī)方面已取得突破，無需EUV光刻機(jī)的技術(shù)也在推進(jìn)，留給ASML的時(shí)間已經(jīng)不多了。

于是今年三季度ASML趕緊大舉對(duì)中國出售光刻機(jī)，它公布的業(yè)績顯示今年三季度從中國市場獲得的收入高達(dá)46%，較去年的低谷8%增長了4倍多，可見ASML對(duì)于搶占中國市場多么迫切。

現(xiàn)實(shí)證明ASML的光刻機(jī)生意已很難長久，它也表示第二代EUV光刻機(jī)將是它最后一款光刻機(jī)，光刻機(jī)業(yè)務(wù)將走到盡頭，中國這個(gè)超級(jí)大市場將是它的最后紅利，爭取中國市場已是它最后的選擇。