眾所周知，目前的芯片制造光刻機(jī)，分為很多種。比較常規(guī)的分法是G線、I線、KrF、ArF、ArFi、EUV光刻機(jī)這么6種。

為何會(huì)這么分呢？原因是這6種光刻機(jī)，采用不同波長(zhǎng)的光源，然后可以制造的芯片工藝也不一樣，如下圖所示，一看大家就都懂的。

當(dāng)然，目前最受大家關(guān)注的，主要還是ArF，ArFi，EUV這三種，也是目前需求最大的三種。

其中ArF是普通的干式DUV光刻機(jī)，采用193nm波長(zhǎng)的深紫外線，所以稱為DUV光刻機(jī)。

ArFi與ArFi其實(shí)是差不多，也是193nm波長(zhǎng)的深紫外線，也可以稱之為DUV光刻機(jī)，不過(guò)這種光刻機(jī)，在硅晶圓上采用了一層水來(lái)作為介質(zhì)，而193nm波長(zhǎng)的深紫外線，經(jīng)過(guò)水折射后，等效于134nm的波長(zhǎng)，所以也稱之為浸潤(rùn)式光刻機(jī)。

ArF與ArFi只有一層水的差距，但也因?yàn)檫@一層水，可以制造的芯片就不一樣了。普通干式DUV光刻機(jī)，最小可以支持到65nm工藝。

而ArFi這種浸潤(rùn)式光刻機(jī)，最小可以支持到7nm工藝，不過(guò)需要采用多重曝光技術(shù)，這些曝光技術(shù)，主要有LELE，LFLE，以及SADP、SAQP這4種，這里就不一一展開(kāi)去談了。

以前ASML的DUV光刻機(jī)，也包括浸潤(rùn)式光刻機(jī)，是可以賣給中國(guó)的。后來(lái)在今年9月份，荷蘭的芯片禁令執(zhí)行，ASML的浸潤(rùn)式光刻機(jī)中，只有NXT:1980Di這臺(tái)最老的能賣，新的型號(hào)都不能賣了，不過(guò)ASML表示它已經(jīng)獲得了許可證，年內(nèi)暫時(shí)還不受影響。

但近日，美國(guó)再次升級(jí)禁令，根據(jù)新的規(guī)則，這次ASML所有的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，都不能賣到中國(guó)來(lái)了，除非有許可證。

至于年內(nèi)，ASML的許可證有沒(méi)有效，中國(guó)還能不能隨便買ASML的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，暫時(shí)還沒(méi)有確切消息，但從明年開(kāi)始，肯定是任何浸潤(rùn)式光刻機(jī)都不能賣了，除非ASML調(diào)整參數(shù)，進(jìn)行閹割，以滿足美國(guó)禁令的要求。

美國(guó)為何這次針對(duì)浸潤(rùn)式光刻機(jī)下手？原因很簡(jiǎn)單，前面已經(jīng)講過(guò)了，那就是浸潤(rùn)式光刻機(jī)，經(jīng)過(guò)多重曝光，最高可以支持7nm工藝。

而美國(guó)去年就想將中國(guó)芯片工藝鎖死在14nm的，誰(shuí)知道今年Kirin9000S出爐，它等效于7nm，這明顯算是打臉美國(guó)了，于是美國(guó)趕緊升級(jí)，直接將浸潤(rùn)式光刻機(jī)也禁了，美國(guó)不希望再有類似的事情發(fā)生。

那么，在這樣的情況之下，我們的7nm還有戲么？短時(shí)間之內(nèi)肯定有戲，因?yàn)橹百I的還能夠使用啊。至于很長(zhǎng)一段時(shí)間之后，也許我們自己的ArFi光刻機(jī)有了突破呢？所以其實(shí)我們也不必太擔(dān)心，認(rèn)真研究，努力突破，減少對(duì)國(guó)外設(shè)備的依賴，是我們的必由之路，按照這個(gè)目標(biāo)一直走，一定會(huì)成功的。