最近幾天，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)又成為了市場(chǎng)熱點(diǎn)，有很多媒體稱(chēng)，中國(guó)顛覆式創(chuàng)新下的EUV光刻機(jī)有了大突破，而團(tuán)隊(duì)是清華大學(xué)，具體項(xiàng)目是SSMB-EUV方案。

說(shuō)的是有鼻子有眼，甚至還有圖有真相。但事實(shí)上，大家仔細(xì)想一想就會(huì)清楚，光刻機(jī)從0到1實(shí)現(xiàn)技術(shù)突圍，再?gòu)?到100實(shí)現(xiàn)商業(yè)化量產(chǎn)，從來(lái)不是一件容易的事，要有這么容易突破，也不至于全球僅ASML一家有EUV光刻機(jī)了。

說(shuō)實(shí)話(huà)，對(duì)于這種類(lèi)似未經(jīng)證實(shí)的重大突破傳言，需要慎之又慎，因?yàn)楹艽蟾怕示褪羌俚摹?br/>

光刻機(jī)（包括EUV光刻機(jī)）均由三大核心系統(tǒng)組成，涉及到數(shù)萬(wàn)個(gè)零件，而EUV光刻機(jī)更是超過(guò)10萬(wàn)個(gè)零件，全球有5000多家供應(yīng)鏈，是產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)頂尖公司通力合作的成果。

光刻機(jī)的三大核心系統(tǒng)分別是光源方面、光學(xué)系統(tǒng)、雙工作臺(tái)。

光源系統(tǒng)，在DUV光刻機(jī)，采用準(zhǔn)分子激光器，技術(shù)掌握在Cymer和Gigaphoton手中，國(guó)內(nèi)科益虹源打破了壟斷，有了DUV光源，這個(gè)是突破。

而在EUV光刻機(jī)中，光源與DUV又不一樣，是通過(guò)高功率CO2激光器轟擊Sn滴而來(lái)，高功率激光器為核心組件。ASML的EUV光刻機(jī)中，EUV光源是荷蘭ASML、德國(guó)TRUMPF、德國(guó)ZEISS通力合作的結(jié)果。

而前幾天清華大學(xué)的SSMB方案，其實(shí)是指這個(gè)方案成功后，有可能成為EUV的光源。注意看，這里是指有可能成為EUV光刻機(jī)的光源，而不是一定能成，且目前SSMB也沒(méi)有穩(wěn)定運(yùn)行，都沒(méi)有實(shí)現(xiàn)0到1的突破，更不要提1到100了。

再說(shuō)光學(xué)系統(tǒng)方面，這一塊有兩部分組成，分別是照明系統(tǒng)和物鏡系統(tǒng)。照明系統(tǒng)優(yōu)化成像過(guò)程，實(shí)現(xiàn)分辨率增強(qiáng)；投影物鏡系統(tǒng)將掩模圖形聚焦成像，ZEISS為ASML關(guān)鍵光學(xué)元件獨(dú)家供應(yīng)商，目前全球僅蔡司擁有浸潤(rùn)式光學(xué)系統(tǒng)、EUV光學(xué)系統(tǒng)能力，除蔡司外，全球沒(méi)有任何其它的替代廠商。

在ASML的EUV光刻機(jī)中，光學(xué)系統(tǒng)高約1.5m，重3.5噸，由3.5萬(wàn)個(gè)獨(dú)立部件組成；其中照明系統(tǒng)共1.5萬(wàn)個(gè)組成部分，重1.5噸；投影物鏡共2萬(wàn)個(gè)組成部分，重2萬(wàn)噸。

國(guó)內(nèi)目前在光學(xué)系統(tǒng)方面，存在很大的短板，與蔡司的水平還有很大差距，浸潤(rùn)式光學(xué)系統(tǒng)暫時(shí)還沒(méi)有搞定，更不要提EUV的光學(xué)系統(tǒng)了。

最后說(shuō)說(shuō)雙工作臺(tái)，雙工作臺(tái)是指測(cè)量平臺(tái)和曝光平臺(tái)，這一塊考慮的指標(biāo)是MA（移動(dòng)平均偏差），它影響光刻分辨率；MSD（移動(dòng)標(biāo)準(zhǔn)偏差）影響套刻精度，速度、加速度、機(jī)臺(tái)穩(wěn)定時(shí)間等影響產(chǎn)率。

ASML的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，其CD均為38nm，那么要求MA在1nm以?xún)?nèi)，MSD在7nm左右，而載物加速度要達(dá)到5g。

目前國(guó)內(nèi)華卓精科和清華大學(xué)團(tuán)隊(duì)在雙工作臺(tái)上，表現(xiàn)非常不錯(cuò)，其工作臺(tái)MA為1.5nm，MSD為2.6nm，基本達(dá)到了ASML的浸潤(rùn)式光刻機(jī)的要求。

可見(jiàn)，國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)要突破，必須在光源、光學(xué)系統(tǒng)、工作臺(tái)上都要突破，其中唯一相對(duì)有把握一點(diǎn)的是雙工作臺(tái)了，像光源、光學(xué)系統(tǒng)把握還不大。

更重要的是，除了這三大核心，還有眾多的技術(shù)，前面已經(jīng)提到過(guò)，ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，包含了十萬(wàn)個(gè)零部件，大量的零部件需要全球各領(lǐng)域的頂尖技術(shù)來(lái)支持。

所以要走的路還很遠(yuǎn)，我不是要唱衰，而是提醒大家不要盲目樂(lè)觀，誤信了謠言，高精尖技術(shù)的研發(fā)，從來(lái)都是一場(chǎng)漫長(zhǎng)的征途，沒(méi)有捷徑可走，尤其那些所謂的顛覆式的創(chuàng)新，一下子就突破了的沸騰消息，很多時(shí)候就是假的。