中商情報(bào)網(wǎng)訊：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）設(shè)備是集成電路制造中獲得全局平坦化的一種手段，這種工藝就是為了能夠獲得既平坦、又無劃痕和雜質(zhì)玷污的表面而專門設(shè)計(jì)的。

市場規(guī)模

cmp設(shè)備是化學(xué)機(jī)械平坦化設(shè)備是半導(dǎo)體晶片表面加工的關(guān)鍵技術(shù)之一，2019年受全球半導(dǎo)體景氣度下滑影響，全球CMP設(shè)備的市場規(guī)模出現(xiàn)短暫下滑，中商產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國CMP設(shè)備行業(yè)市場前景預(yù)測及未來發(fā)展趨勢研究報(bào)告》顯示，2022年，全球CMP設(shè)備市場規(guī)模為27.78億美元，同比下降0.18%，市場規(guī)模保持穩(wěn)定。隨著半導(dǎo)體行業(yè)景氣度上升，CMP設(shè)備市場將恢復(fù)增長，中商產(chǎn)業(yè)研究院分析師預(yù)測，2023年將達(dá)30.4億美元。

數(shù)據(jù)來源：SEMI、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

區(qū)域分布

2022年，中國大陸CMP設(shè)備市場份額占全球比為23.97%，市場規(guī)模連續(xù)3年保持全球第一。其次分別為中國臺灣、北美、韓國、歐洲、日本，占比分別為23.69%、18.18%、16.27%、8.71%、5.36%。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理