9月1日早上，荷蘭光刻機巨頭ASML在一份聲明中稱，該公司已向荷蘭政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)的出口許可證申請，荷蘭政府也已經頒發(fā)了截至9月1日所需的許可證，允許ASML今年繼續(xù)發(fā)運相關光刻系統(tǒng)。

“在新的出口管制條例下，今年年底前ASML仍然能夠履行與客戶簽訂的合同，發(fā)運這些光刻設備。我們的客戶也已知悉出口管制條例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發(fā)運這些設備的出口許可證。” 該聲明中稱。

換句話來說，在新的出口管制條例下，今年年底前，ASML仍然能夠履行與客戶簽訂的合同，發(fā)運這些光刻設備。由此ASML預計出口管制條例不會對其2023年財務展望或長期展望產生實質性影響。至于2024年，不確定性猶存。

據(jù)了解，2019年底后，荷蘭ASML就不能向中國大陸芯片制造商出售最先進的EUV光刻機。據(jù)悉，中國大陸是ASML第三大市場，僅次于中國臺灣和韓國，約占其2021年銷售額的16%，即21億歐元。不過，ASML可以繼續(xù)向大陸客戶銷售DUV光刻機。

直到2023年，荷蘭政府在6月30日于官方公告中宣布，將要求該國生產先進芯片制造設備的公司在出口一些先進的DUV光刻機時需要申請許可證，措施將于9月1日正式生效。

荷蘭外貿與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾當天宣稱，“我們采取這一措施是為了（保護）國家安全”，相關半導體設備可能“被用于軍事用途”。他還補充說，只有“非常有限”數(shù)量的公司和產品型號將受到影響。

當時有媒體分析認為，雖然公告中沒有直接提及中國和荷蘭光刻機生產企業(yè)ASML，但相關出口限制是迫于美國政府的壓力。多家荷蘭媒體稱，正是美國去年10月以所謂“國家安全”為由，在對華半導體出口領域實施新的出口限制，并游說其他擁有關鍵供應商的國家也采取類似限制措施。在美國壓力下，荷蘭此前已經禁止ASML向中國出口所有最先進的EUV光刻機，接著DUV又成為目標。

對此，中國駐荷蘭大使館發(fā)言人表示，這是對出口管制措施的濫用，是對自由貿易和國際經貿規(guī)則的嚴重背離，中方對此堅決反對。

這些年，中國每年都會進口光刻機。在此背景下，荷蘭的新措施肯定將對中國的芯片產業(yè)發(fā)展造成影響，但不至于很嚴重。首先，中國生產的大量芯片屬于成熟制程，不一定需要特別先進的光刻機；其次，即使需要生產先進制程芯片，中國也還有一些先進型號DUV可以使用；最后，最近幾年，中國企業(yè)在光刻機領域下了大功夫，相信很快會投入生產。