美光將向日本投資5000億日元用于EUV芯片制造，2025年投產(chǎn)
關(guān)鍵詞： 光刻機(jī) 半導(dǎo)體 芯片
根據(jù)路透社5月17日消息，美光宣布將向日本投資5000億日元（約合254.8億元人民幣），用于在未來(lái)幾年內(nèi)在日本工廠引入EUV極紫外光刻機(jī)，生產(chǎn)DRAM芯片。
日本政府也對(duì)本國(guó)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行了一系列扶持，計(jì)劃向美光提供2000億日元的財(cái)政補(bǔ)助。集微網(wǎng)此前報(bào)道，美光在日本的工廠位于廣島，該公司將為日本引入首臺(tái)ASML EUV極紫外光刻機(jī)，可以用于生產(chǎn)1-gamma先進(jìn)制程芯片。此前美光已經(jīng)于2022年在日本成功量產(chǎn)1-beta 制程DRAM芯片，預(yù)計(jì)全新的EUV光刻機(jī)將于2025年在日本投入生產(chǎn)，用于制造1-gamma DRAM存儲(chǔ)芯片。
近年來(lái)，日本一直試圖努力重振本國(guó)的芯片產(chǎn)業(yè)，其全球市場(chǎng)份額已從1980年的50%降低至如今的10%。美國(guó)作為日本盟友，如今也在努力幫助日本提振芯片制造產(chǎn)業(yè)。
