Nvidia近日針對芯片制造領域，投炸彈了。

推出了一個造福先進芯片制造的突破性技術——NVIDIA cuLitho計算光刻庫。

利用Nvidia的H100 GPU芯片，可以讓臺積電的計算光刻速度，提升40倍，從而提高生產(chǎn)效率，降低成本，提升產(chǎn)能，特別是對先進工藝，比如2nm、1nm影響巨大。

至于原理是什么，我們就不用細說了，反正就是Nvidia使用了GPU芯片，再加上AI技術，來替代原來臺積電使用的CPU數(shù)據(jù)中心，實現(xiàn)了速度提升，同時功耗降低等。

而這項技術，nvidia還聯(lián)手了ASML、EDA大廠新思科技，四方一起研究了4年，直到近日才真正發(fā)布出來。

而臺積電、ASML、新思科技也表示，后續(xù)會大規(guī)模應用Nvidia的cuLitho技術，用來提升生產(chǎn)效率……

說真的，看到這里，不知道大家有什么感想？我的感想是，隨著科技越來越發(fā)展，結合越來越緊密，AI應用于各行各業(yè)后，芯片競爭已經(jīng)是綜合能力的競爭，不再局限芯片產(chǎn)業(yè)本身，我們后續(xù)在芯片產(chǎn)業(yè)上要追趕，其實是越來越難的。

就拿這個NVIDIA cuLitho計算光刻庫這個技術來說，就算我們知道原理，知道相關技術，也實現(xiàn)不了，因為高端GPU芯片，我們沒有。

Nvidia這個技術的實現(xiàn)，是基于其高端H100 GPU芯片的，但是這樣高端芯片，目前已經(jīng)禁銷了，美國不準Nvidia賣到中國來。

我們如果實現(xiàn)同樣的技術，必須要有自己的GPU芯片，并且還要達到H100這個級別的，目前國內的GPU芯片，與Nvidia相比，不說多了，5-10年的差距應該是有的吧。

況且Nvidia也不會停留在原地等你5-10年，你在進步，別人也在進步啊，所以5-10年也未必追得上人家。

更重要的是，這個計算光刻，只是一個例子，從砂子變成芯片，需要5000多道工序，幾百種設備，幾百種材料。

隨著科技的不斷進步，這5000多道工序中，說不定什么時候又有新技術推出，就像NVIDIA cuLitho的計算光刻庫一樣，基于最新的AI、芯片等技術進行了顛覆。

而我們呢，先進光刻機被卡，先進GPU芯片被卡，先進半導體設備被卡，先進技術也受限，而別人強強結合，強強聯(lián)手，還對我們封禁，確實是越來越難了。

可見，未來是綜合實力的競爭，并不僅僅只是某一關鍵技術、設備的競爭，芯片競爭，已經(jīng)不只是芯片制造本身技術本身在競爭，還牽涉到各種GPU、AI、CPU、光學、材料學、物理學、數(shù)學等等的綜合能力競爭了。

從這一點出發(fā)，我們需要補的課，還非常多，并不是某一個點突破就行，而是基礎科學必須突破，把基礎打扎實了，才能夠在綜合競爭中追上，甚至超過對方，你認為呢？