在ASML追隨美國的腳步停止對中國出售14納米光刻機之后，其實ASML還留了后手，那就是它表示仍然可以對中國出售28納米的浸潤式光刻機，而這款光刻機其實也可用于14納米工藝生產(chǎn)，只不過需要多重曝光技術(shù)，生產(chǎn)成本較高。

ASML保留的這個后手就是繼續(xù)對中國出售NXT:1980Di，這款型號的光刻機其實同樣屬于浸潤式光刻機，在數(shù)年前其實是屬于相當先進的光刻機，臺積電不僅將它用于生產(chǎn)14納米工藝，還用于生產(chǎn)第一代7納米工藝。

當然將NXT:1980Di用于生產(chǎn)14納米乃至7納米工藝仍然需要廠商有很強的技術(shù)能力，生產(chǎn)的成本也會較高，而且性能不太理想，當時臺積電以這型號的光刻機生產(chǎn)的7納米工藝表現(xiàn)就不太理想，隨后引入EUV光刻機之后生產(chǎn)的7納米EUV工藝性能得到大幅度提升。

中國的芯片企業(yè)用NXT:1980Di生產(chǎn)14納米和7納米都是有可能的，目前國內(nèi)最大的芯片代工企業(yè)中芯國際的CEO梁孟松就擁有很強的7納米技術(shù)，梁孟松曾幫助臺積電和三星推進7納米工藝，國內(nèi)芯片制造企業(yè)以這款光刻機推進7納米也就有了可能性。

ASML繼續(xù)保留著NXT:1980Di這款浸潤式光刻機的銷售其實并非好心，它希望這款舊型號的光刻機能繼續(xù)發(fā)光發(fā)熱，畢竟技術(shù)成熟、成本較低，對中國出售的價格恐怕也不會太低，如此它將能由此獲得豐厚的利潤，更重要的是它可能已認識到中國在浸潤式光刻機方面已取得突破。

其實中國的浸潤式光刻機早在兩年前就已交付樣機，據(jù)稱主要是因為雙工作臺的穩(wěn)定性不足導致整體精度不穩(wěn)定，去年哈工大公布的平面光柵激光干涉儀技術(shù)恰恰是為了解決浸潤式光刻機的整體精度問題。

近期一家中國手機企業(yè)被傳出將推出采用國產(chǎn)14納米工藝生產(chǎn)的5G手機芯片，這或許意味著不僅國產(chǎn)的浸潤式光刻機已投產(chǎn)，還解決了14納米的光刻膠等材料國產(chǎn)化的問題，因為如果采用了美國技術(shù)就不能為這家中國手機企業(yè)生產(chǎn)芯片。

國產(chǎn)浸潤式光刻機的突破可能才是ASML保持著繼續(xù)供應NXT:1980Di的重要原因，它可能試圖借此吸引中國芯片企業(yè)采購它的光刻機，而減少采用國產(chǎn)的光刻機，如此一來就能延緩國產(chǎn)光刻機的技術(shù)進展。

對于28納米乃至14納米和7納米浸潤式光刻機來說，其實技術(shù)基本是相通的，只要國產(chǎn)光刻機能量產(chǎn)28納米浸潤式光刻機，納米解決14納米、7納米浸潤式光刻機的問題也就快多了，可以說ASML的選擇印證了國產(chǎn)浸潤式光刻機的重要突破。

ASML的選擇證明了中國芯片就需要堅定推進自主研發(fā)，只要我們?nèi)〉猛黄频募夹g(shù)，海外就會供應乃至降價供應，此前在液晶面板以及當前價格大跌的固態(tài)硬盤都證明了這一點，可以說ASML完全就是惺惺作態(tài)，中國芯片行業(yè)應該更緊密支持國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈，畢竟只有我們的自己技術(shù)才能真正掌握在手里，不受他人控制，正如知名院士倪光南所說“先進技術(shù)是買不來的、求不來的”。