現(xiàn)在光刻機的原理，不管是DUV，還是EUV，大家都懂的，其實就是類似于單反相機，用光線，把掩膜板上的圖形，縮小以后投影到硅片上。

只不過光刻機的像素更高，7nm芯片光刻的話，像素要在室1600億像素才行，目前手機攝像頭像素最高為2億，光刻機至少是2億像素的800倍。

DUV、EUV光刻機，只不過是曝光的光線不同而已，比如DUV采用的是243nm或193nm的深紫外線，而EUV采用的是13．5nm的極紫外線。

明明這么簡單的原理，為何卻造不出來？這里，其實關(guān)鍵還是我們?nèi)鄙僖患蚁癫趟具@樣的頂級光學(xué)設(shè)備廠商。

在光刻機里面，有三大核心，不管是DUV，還是EUV都是如此。這三大核心是光源、物鏡系統(tǒng)，工作臺。

光源就是193nm或13．5nm的光源。而物鏡系統(tǒng)就是怎么將這些控制好，進行精細的光刻。而工作臺，則是放置晶圓，然后根據(jù)芯片設(shè)計圖，精細的控制這些晶圓的移動，別刻歪了。

目前國內(nèi)在光源、工作臺上，其實是有一些積累的，所以國產(chǎn)DUV光刻機是有的，上海微電了就有這種光刻機。

但物鏡系統(tǒng)上，就真的被卡住了。

拿EUV光刻機來說，使用13．5nm的光線，這種光線波長太短，空氣都穿不透，所以只能在真空中傳播，同時現(xiàn)實中沒有任何材料能夠反射它。

所以要控制這種光線，需要幾十層鉬和硅層層疊疊摞起來，還要在鏡片上鍍膜才能完成，每一層膜都只有納米級別的厚度，每層誤差不能超過0．01納米。

這樣的鏡面究竟有多平整？要求是起伏度要低于在地球表面大小的平面上放一根頭發(fā)絲。

目前國內(nèi)擁有這個技術(shù)的光學(xué)廠商沒有，甚至全球也就蔡司一家才有，連尼康、索尼這樣的日本頂級光學(xué)設(shè)備廠商，都做不出來。

有人稱，從0開始，直到擁有這種光學(xué)技術(shù)，可能比從0開始，制造光刻機都更難。因為光刻機的核心原理，其實就是制造出全世界最大、最精細的單反，核心在于光學(xué)系統(tǒng)。

所以，如果大家在網(wǎng)上看到什么國產(chǎn)EUV光刻機有突破了，馬上要推出了之類的新聞，先看看突破的是光源，還是工作臺，或者是光學(xué)設(shè)備。

如果光學(xué)設(shè)備沒有突破，那么就是假的，因為目前國產(chǎn)連DUV的物鏡系統(tǒng)都搞不定，需要進口，EUV就更不要說了，這種技術(shù)沒有捷徑，也不可能彎道超車，只有一步一步來的，類似于建房子，第1層都沒建好，你說直接從空中開始，修第30層，誰信？