知道光刻機故事的人都清楚，在ASML之前，日本的尼康、佳能才是老大哥。

不過在ARF光刻機時，也就是采用193nm的干式光刻機的時候，發(fā)生了分歧，日系廠商認為要繼續(xù)研發(fā)使用波長更短的光源比如165nm，來提高光刻分辨率。

但是165nm波長的光線非常不穩(wěn)定，研究了幾年，大家都沒進展。

這時臺積電的林本堅站了出來，表示以前的光刻機是用空氣做介質(zhì)的。如果采用水為介質(zhì)，利用水的折射，采用193nm的光源，在水的折射下可以等效于134nm，比165nm的光線分辨率更好，還跳過了165nm這個難搞的光源。

但尼康、佳能不信，打算一條道走到黑，繼續(xù)研究165nm光源，不用水為介質(zhì)。

而ASML還是小廠，就打算搏一搏，說不定單車變摩托了呢？于是ASML與臺積電合作，制造以水為介質(zhì)的浸潤式光刻機。

這一搏就成了ASML的翻身之作，第一臺浸潤式光刻機ARFi制造出來，采用193nm波長，但等效于134nm，馬上投入臺積電的生產(chǎn)線上，效果非常好。

而佳能、尼康不認輸，堅持不造這種以水為介質(zhì)的光刻機，于是市場慢慢的全被ASML搶走了，后來ASML更是造出了EUV光刻機，獨家壟斷了光源等等。導(dǎo)致尼康、佳能一蹶不振，再也翻不了身。

后來尼康認錯，也開始接受現(xiàn)實，制造浸潤式光刻機，但佳能死都不認錯，堅持不造浸潤式光刻機。如今除了ASML，日本尼康也能夠量產(chǎn)用于生產(chǎn)7nm及以下制程的浸潤式光刻機，也就是DUV中的ARFI光刻機。

而佳能則轉(zhuǎn)身研究“納米壓印光刻（NIL）”技術(shù)去了，想要顛覆ASML的EUV光刻機技術(shù)，要換道超車。

目前佳能已經(jīng)造出了NIL光刻機，且已經(jīng)與內(nèi)存廠商鎧俠合作，用于制造內(nèi)存芯片，不過分辨率還不夠理想，但前方已經(jīng)看到光亮了，佳能表示，很快可以達到5nm的分辨率。

按照佳能的報表，2022年光刻機的營收增長11%。但表示2023年要重金投入光刻機，產(chǎn)能要提升兩倍，同時再押注NIL光刻機技術(shù)，盡快實現(xiàn)5nm精度。

與ASML不一樣，ASML的光刻機依賴美國的技術(shù)，但日本的光刻機，不管是尼康的、還是佳能的，基本上都是自主可控的，不需要美國的技術(shù)，不受美國的長臂管轄。

所以我們看到美國趕緊聯(lián)手日本，來圍堵中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，就是怕日本賣光刻機給中國。

但不可否認的是，雖然美國已經(jīng)聯(lián)手日本，但日本光刻機能否卷土重來可能會成為現(xiàn)實，而借助中國市場，實現(xiàn)光刻機產(chǎn)業(yè)的“彎道超車”，可能也會是日本光刻機廠商們的選擇之一，就看籌碼夠不夠了。