眾所周知，目前芯片的制造流程中，光刻機(jī)是必不可少的設(shè)備，且從成本來(lái)看，光刻機(jī)占所有半導(dǎo)體設(shè)備成本的20-25%。

但是大家也清楚，當(dāng)前在光刻機(jī)領(lǐng)域，ASML是一家獨(dú)大，特別是EUV光刻機(jī)，只有ASML能夠生產(chǎn)，而在尖端一點(diǎn)的DUV光刻上面，也是ASML占優(yōu)，佳能、尼康等品牌，主要占的是低檔市場(chǎng)。

如上圖所示，這是機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的2021年前道光刻機(jī)出貨量情況，大家可以看到高檔的EUV光刻機(jī)，ASML完全壟斷，低檔尼康、佳能有一定的份額。

而中國(guó)大量需要光刻機(jī)，特別是EUV光刻機(jī)，這就造成了市場(chǎng)與需求的不匹配，但ASML也沒(méi)辦法啊。

所以其它廠商有一個(gè)非常大的機(jī)會(huì)，那就是搞定EUV光刻機(jī)，然后賣給中國(guó)，那會(huì)是巨大的市場(chǎng)。

不過(guò)，要掌握EUV光刻機(jī)技術(shù)，可不容易，因?yàn)锳SML造EUV光刻機(jī)，是整合了全球的技術(shù)，美國(guó)的光源、德國(guó)的鏡片、英國(guó)的真空腔，可以說(shuō)是舉全球之力完成的。

雖然尼康、佳能、上海微電子都有光刻機(jī)，但要搞定EUV光刻機(jī)，估計(jì)是沒(méi)太多辦法的，ASML攢局的能力太強(qiáng)了，已經(jīng)將利益鏈捆綁在一起了。

為此，這要怎么辦呢？當(dāng)然就要換道超車了，比如佳能，知道在EUV上是不可能打敗ASML的，所以一直押注納米壓印光刻（NIL）技術(shù)。

所謂NIL技術(shù)，是將三維結(jié)構(gòu)的掩膜壓在晶圓的感光材料上，同時(shí)照射光線完成一次性轉(zhuǎn)印，被稱為是最有前景的光刻技術(shù)之一。

目前在NIL的專利上，佳能一支獨(dú)秀，遠(yuǎn)超其它任何廠商，并且佳能的NIL光刻機(jī)不僅僅是停留在紙面上，而是已經(jīng)有有生產(chǎn)出來(lái)了，在2021年就有了成品，并且被鎧俠應(yīng)用于NAND閃存的生產(chǎn)。

佳能近日表示，接下來(lái)會(huì)研發(fā)新一代的NIL光刻機(jī)，新一代的NIL光刻機(jī)，有可能應(yīng)用于28nm甚至14nm及以下的工藝。

值得大家注意的是，目前NIL技術(shù)，基本上都是日系廠商掌握，并不需要依賴美國(guó)、歐洲等的產(chǎn)業(yè)鏈，也就是說(shuō)NIL光刻機(jī)，日本一旦生產(chǎn)出來(lái)，可以不聽(tīng)美國(guó)的，不受美國(guó)的長(zhǎng)臂管轄，也意味著佳能一定生產(chǎn)出來(lái)，是可以賣給中國(guó)的。

當(dāng)然現(xiàn)在的問(wèn)題是，能夠媲美EUV光刻機(jī)的NIL光刻機(jī)，究竟會(huì)在什么時(shí)候面市，如果佳能能夠?qū)崿F(xiàn)這個(gè)技術(shù)，全球的半導(dǎo)體格局都有可能生變。

一旦媲美EUV光刻機(jī)的NIL光刻機(jī)面市，以ASML為中心，以為美國(guó)意志為體現(xiàn)的的先進(jìn)工藝制程，可能就再也不聽(tīng)美國(guó)的了，會(huì)迎來(lái)蓬勃發(fā)展，可能全球都在盼望著佳能的大動(dòng)作，特別是中國(guó)。