近期美國商務部副部長與光刻機制造商ASML共同宣布ASML將斥資2億美元擴建后者位于美國康涅狄格州威爾頓的光刻機工廠,ASML此前確定將第一臺High-NA EUV光刻機--第二代EUV光刻機,第二代EUV光刻機是生產2nm乃至1nm級別工藝的關鍵設備。

目前美國芯片企業(yè)Intel與臺積電就先進工藝的競賽正進行得如火如荼,臺積電預計今年下半年量產3nm工藝,但是隨著知名蘋果分析師郭明錤指蘋果的A16處理器將繼續(xù)采用臺積電的N5P工藝而不是3nm工藝,意味著臺積電的3nm工藝量產已遇到麻煩。

Intel則宣布今年下半年量產Intel 4工藝,由此Intel在先進工藝制程方面正進一步縮短與臺積電的差距,兩者的較量將在2nm以及1nm級別決出勝敗。

此前臺積電曾表示在量產3nm工藝后,2nm乃至更先進的工藝研發(fā)將可能被推遲,2nm工藝最快也得在2025年量產,但是Intel迅速宣布Intel 18A工藝將在2025年量產,臺積電不甘示弱--宣布它的3nm工藝團隊立即投入研發(fā)1．4nm工藝,以保持在先進工藝制程方面的領先優(yōu)勢。

如今決定Intel和臺積電兩家芯片制造企業(yè)的1nm級別工藝量產時間的關鍵就在于ASML第二代EUV光刻機了,然而從美國派出商務部副部長如此高級版的官員與ASML宣布合作來看,可以看出美國對于推進1nm工藝的量產志在必得,對于臺積電將頗為不妙。

如今的臺積電已受到美國方面的嚴重掣肘,它有近七成營收來自美國芯片企業(yè),而一些關鍵技術也來自于美國,由此去年它在多番掙扎之后最終還是向美國交出了機密數(shù)據(jù),凸顯出它的無奈。

為了爭取美國的支持,臺積電也做出了努力,按照美國的要求如期在美國設廠并引入它當下最先進的5nm工藝,然而美方卻對此前承諾的提供高額補貼的計劃遲遲未落實,對臺積電的態(tài)度似乎已發(fā)生變化。

其中最顯著的變化就是在美國的影響下ASML最終決定將第一臺第二代EUV光刻機交付給Intel,同時美方可能將520億美元補貼用于扶持美國本土芯片企業(yè);近期美方相關人員在訪問亞洲的時候參觀了三星的3nm工廠,卻沒到訪臺積電的3nm工廠,這都顯示出美國態(tài)度的微妙。

或許此刻的臺積電已后悔當初遵從美國的要求,停止為華為代工生產芯片,隨后更導致眾多中國大陸芯片企業(yè)撤單,中國大陸芯片企業(yè)為臺積電貢獻的營收也迅速從22%暴降至6%,在臺積電如此合作的情況下卻換來美國如此態(tài)度。

臺積電相關人員如今也有些變化,臺積電創(chuàng)始人張忠謀以及董事長劉德音都先后對當下正推進的美國工廠發(fā)出了一些聲音,張忠謀指出美國制造的成本太高導致它并不適合發(fā)展芯片制造,與此相印證的則是Intel最先進的Intel 4工藝工廠也設在愛爾蘭而不是美國本土,都在提醒著美國發(fā)展先進工藝所面臨的成本問題。

臺積電對當下美方的態(tài)度變化也做出了相應的轉變,今年一季度它在芯片產能依然緊張的情況下釋放了部分先進工藝產能給中國大陸芯片企業(yè),由此中國大陸芯片行業(yè)給臺積電貢獻的營收已達到11%,較去年的6%大幅增長,似乎臺積電希望借力中國大陸芯片行業(yè)制衡美國芯片。

如今中國大陸已是全球最大的芯片市場,對先進工藝產能確實有很強烈的需求,中國大陸芯片行業(yè)在AI、物聯(lián)網等新興科技領域也取得了部分優(yōu)勢,具備與美國芯片行業(yè)競爭的部分實力,可以說中國大陸芯片和臺積電合作將是共贏。