- 三星加購兩臺High NA EUV光刻機(jī)，增強(qiáng)2nm代工工藝
- 瞄準(zhǔn)Intel 14A工藝，消息稱英特爾加購兩臺High NA EUV光刻機(jī)
- 俄羅斯公布EUV光刻機(jī)路線圖，采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機(jī)路線圖：2036年實(shí)現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
- 【進(jìn)展】新研究提出用光為量子自旋“護(hù)航”；中國科學(xué)院微電子研究所在EUV光刻收集鏡紅外輻射抑制方面取得新進(jìn)展；中國科學(xué)院國家納米科學(xué)中心鄢勇團(tuán)隊(duì)在基于離子型神經(jīng)形態(tài)器件構(gòu)筑智能味覺系統(tǒng)方面取得進(jìn)展
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布超級EUV光刻機(jī)：但死胡同也不遠(yuǎn)了
- 我們彎道超車的機(jī)會來了，EUV光刻機(jī)，有了新技術(shù)，更先進(jìn)
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時(shí)，才要換EUV光刻機(jī)
- ASML要慌：EUV光刻機(jī)新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%
- 中國芯的好消息：EUV光刻機(jī)沒有下一代，芯片工藝達(dá)到極限
