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- 俄羅斯公布EUV光刻機路線圖,采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機路線圖:2036年實現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
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- 可量產(chǎn)0.2nm工藝!ASML公布超級EUV光刻機:但死胡同也不遠了
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- ASML攤牌:1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時,才要換EUV光刻機
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