- 【進展】新研究提出用光為量子自旋“護航”;中國科學(xué)院微電子研究所在EUV光刻收集鏡紅外輻射抑制方面取得新進展;中國科學(xué)院國家納米科學(xué)中心鄢勇團隊在基于離子型神經(jīng)形態(tài)器件構(gòu)筑智能味覺系統(tǒng)方面取得進展
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝!ASML公布超級EUV光刻機:但死胡同也不遠了
- 我們彎道超車的機會來了,EUV光刻機,有了新技術(shù),更先進
- ASML攤牌:1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時,才要換EUV光刻機
- ASML要慌:EUV光刻機新光源出現(xiàn),成本降50%,功耗降80%
- 中國芯的好消息:EUV光刻機沒有下一代,芯片工藝達到極限
- 臺積電認慫,還是要買ASML新EUV光刻機,30億1臺也得買
- 臺積電認栽了,將購買2納米EUV光刻機,不然搞不定2納米工藝
- ASML:中國HW/SMEE造不出EUV光刻機,不擔(dān)心競爭
- ASML新EUV光刻機28億?臺積電:我不買,不浪費錢,2nm一樣造