- 三星加購兩臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)，增強(qiáng)2nm代工工藝
- 瞄準(zhǔn)Intel 14A工藝，消息稱英特爾加購兩臺(tái)High NA EUV光刻機(jī)
- 俄羅斯公布EUV光刻機(jī)路線圖，采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機(jī)路線圖：2036年實(shí)現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
- 可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布超級(jí)EUV光刻機(jī)：但死胡同也不遠(yuǎn)了
- 我們彎道超車的機(jī)會(huì)來了，EUV光刻機(jī)，有了新技術(shù)，更先進(jìn)
- ASML攤牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片時(shí)，才要換EUV光刻機(jī)
- ASML要慌：EUV光刻機(jī)新光源出現(xiàn)，成本降50%，功耗降80%
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- 臺(tái)積電認(rèn)慫，還是要買ASML新EUV光刻機(jī)，30億1臺(tái)也得買
