據(jù)報道，英特爾已加大對荷蘭芯片設(shè)備制造商ASML High NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機的購買力度，意圖為其Intel 14A（1.4nm）工藝“傾盡全力”。

High NA EUV光刻機被稱為芯片市場上的“圣杯”，這不僅是因為其高昂的價格，還因為其光刻質(zhì)量。Jerry Capital的一篇分析文章披露，英特爾計劃從ASML采購2臺High NA EUV光刻機，比之前多購1臺，這意味著英特爾將加大對未來工藝的芯片制造支出。

英特爾的14A工藝將采用High NA EUV光刻技術(shù)。考慮到該工藝的最終成果，這對于英特爾晶圓代工（IFS）部門來說將是一次重大的革新。英特爾已明確表示，如果Intel 14A節(jié)點未能獲得客戶的廣泛采用，該公司將放棄高端節(jié)點的競爭，因此Intel 14A對IFS來將是“生死攸關(guān)”時刻。迄今為止，High NA EUV 設(shè)備已被臺積電、三星、SK海力士和英特爾等公司采用，并將用于下一代產(chǎn)品。

據(jù)稱，單臺High NA EUV光刻機售價約3.7億美元（約合人民幣26億元），而英特爾僅在光刻設(shè)備上就可能花費10億~20億美元（約合人民幣142億元）。這意味著英特爾很可能成為High NA EUV光刻機的主要采用者之一。隨著英特爾瞄準(zhǔn)Intel 14A工藝的驚人發(fā)布，圍繞該工藝的代工廠資本支出將大幅增長。

鑒于英特爾依賴這些節(jié)點來維持其代工部門和美國芯片制造的雄心，其能否成功攻克Intel 18A（1.8nm）和14A等工藝將充滿挑戰(zhàn)。（校對/趙月）