中商情報(bào)網(wǎng)訊：光芯片行業(yè)加速向“高集成度+場(chǎng)景定制”迭代，核心技術(shù)聚焦硅光調(diào)制效率（帶寬≥67GHz）、CPO共封裝熱管理（功耗降50%）及車(chē)規(guī)級(jí)可靠性（85℃@5000小時(shí)）。挑戰(zhàn)在于III-V族材料外延缺陷率（>0.5/cm2）、高端光刻設(shè)備依賴(lài)（自給率<20%）及美日專(zhuān)利壁壘（80%核心專(zhuān)利被壟斷）；機(jī)遇源自“東數(shù)西算”推動(dòng)1.6T光模塊需求（年增60%）、汽車(chē)激光雷達(dá)芯片滲透（2026年單車(chē)搭載量達(dá)8顆）及量子通信探測(cè)效率突破（>25%）。未來(lái)需突破鈮酸鋰薄膜一致性（波長(zhǎng)精度±0.03nm）、III-V族/硅基異質(zhì)集成及超低損耗波導(dǎo)（插損≤0.1dB/cm）。