俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長 Vasily Shpak 表示已研發(fā)成功350納米光刻機(jī)，接下來是希望在2026年研發(fā)可以支持130納米的光刻機(jī)，這意味著該國正在打破ASML在光刻機(jī)市場的壟斷。

在全球光刻機(jī)市場，ASML無疑是老大，占有超過六成的市場份額，在EUV光刻機(jī)方面更是獨門生意，全球僅有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。

不過EUV光刻機(jī)雖然是ASML的獨門生意，但是為ASML帶來更多收入的還是DUV光刻機(jī)，ASML也只是預(yù)期未來EUV光刻機(jī)的產(chǎn)量提升到100臺，而DUV光刻機(jī)的產(chǎn)量提高到600臺，可見DUV光刻機(jī)的市場規(guī)模大得多。

在DUV光刻機(jī)方面，其實并非ASML所獨有，日本的尼康、佳能等也在生產(chǎn)DUV光刻機(jī)，只不過日本的光刻機(jī)在浸潤式和EUV光刻機(jī)方面落后于ASML，如今佳能則選擇了研發(fā)NIL技術(shù)，繞開EUV光刻機(jī)的限制，據(jù)稱佳能的NIL技術(shù)已得到日本鎧俠和美國美光的采用。

除了他們之外，中國其實也能生產(chǎn)光刻機(jī)，只不過公開的報道指出中國研發(fā)的光刻機(jī)在65納米以上，而中國正在努力研發(fā)28納米以下的浸潤式光刻機(jī)，浸潤式光刻機(jī)可以發(fā)展到7納米工藝。

中國的芯片制造企業(yè)目前就以浸潤式光刻機(jī)研發(fā)接近7納米的工藝，某國產(chǎn)手機(jī)的5G芯片被認(rèn)為就是以接近7納米的工藝生產(chǎn)，這是國產(chǎn)芯片的重大進(jìn)步，意味著國產(chǎn)芯片在先進(jìn)工藝方面取得了重大突破。

業(yè)界人士指出中國所需求的芯片，7納米以上工藝占七成到九成，中國如能實現(xiàn)7納米的大規(guī)模量產(chǎn)，那么國產(chǎn)芯片的自給率可以大幅提升，而這幾年中國芯片由于國產(chǎn)芯片替代，芯片進(jìn)口大幅減少，2023年的芯片進(jìn)口金額較2021年減少了近千億美元。

俄羅斯如今也開始自研光刻機(jī)，在于眾所周知的影響，導(dǎo)致俄羅斯無法進(jìn)口光刻機(jī)，而推進(jìn)自研光刻機(jī)，如今它實現(xiàn)自研光刻機(jī)的重大突破，代表著它的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)開始起步。

對于光刻機(jī)這個行業(yè)來說，有了起步，后續(xù)可以逐步升級，光刻機(jī)本身就是一條很長的產(chǎn)業(yè)鏈，ASML的EUV光刻機(jī)就需要全球5000家企業(yè)協(xié)作生產(chǎn)，俄羅斯實現(xiàn)自研光刻機(jī)，意味著它已打造了一條完整的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈。

不過從俄羅斯的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展也可以看出，它的進(jìn)展過于緩慢了，預(yù)計到2026年才量產(chǎn)130納米光刻機(jī)，而2026年全球的先進(jìn)工藝將發(fā)展到2納米，俄羅斯的光刻機(jī)發(fā)展無疑比全球落后太多。

全球的芯片產(chǎn)業(yè)鏈曾經(jīng)強(qiáng)調(diào)自由貿(mào)易，但是卻由于種種原因被打斷，如今各國都開始發(fā)展自己的芯片產(chǎn)業(yè)鏈，對全球芯片產(chǎn)業(yè)將產(chǎn)生重要影響，這樣的結(jié)果顯然與自由貿(mào)易相違背，導(dǎo)致如此結(jié)果是某國造成的，它曾力推自由貿(mào)易，如今卻又強(qiáng)勢打斷，凸顯出它的強(qiáng)橫和任性。