大家都清楚，芯片工藝，也就是XX納米，其實指的是晶體管的柵極線寬，本應該是一一對應的。

但自從芯片工藝進入28nm之后，芯片工藝和晶體管的柵極線寬，就沒有什么一一對應關系了，因為柵極線寬無法無限的縮小，但工藝又要不斷的縮小。

于是從28nm之后，就變成了等效工藝，工藝命名也就更隨意了些，至于是叫7nm，還是叫5nm，只要晶圓廠不要臉，可以隨便叫。

之前高通、臺積電其實已經算是隱晦的認同了這一點，稱所謂的制程節(jié)點已經變成了一種營銷游戲，大家喜歡將其說的小一點，以顯示工藝先進。

大家看下圖，就可以看到，在10nm時，臺積電、三星的芯片晶體管密度差不多，但只有臺積電的一半，到7nm時依然如此，但到5nm時，差別就大了，3nm時差別就更大了，明顯在相同工藝下，大家的技術明顯不一樣，區(qū)別非常大。

原因就是各家晶圓廠，對工藝的命名不一樣，也就有了大家認為的，intel的7nm=臺積電的5nm=三星的3nm的說法。

后來intel一看臺積電、三星這命名法，也學到了，直接將自己的工藝改名，改成Intel7、Intel4、Intel3、Intel20A、Intel18A。

其中intel7實際上是intel原來的10nm，現(xiàn)在改成7nm。intel4是英特爾原來的7nm，現(xiàn)在改成4nm，intel3實際是原來的5nm，很明顯，打不過就加入你們嘛，一起來玩數(shù)字游戲。

而按照這套改過的工藝命名，intel也迅速追了上來，不再落后于臺積電、三星了，甚至在今年，intel表示要實現(xiàn)intel20A、intel18A工藝，也就是2nm，比臺積電、三星還領先，要是不改名，這個intel20A，實際上可能是4nm或5nm的樣子。

這給了臺積電、三星巨大的壓力，畢竟intel原本落后的，現(xiàn)在居然要領先了，這怎么行呢，于是近日傳出消息，三星又使出絕招了，打算再次使用“改名大法”。

按照媒體的報道稱，三星電子已通知客戶決定將第二代3nm制程更名為2nm，并在年底量產出貨。

這就意味著，在今年intel、三星都要量產2nm芯片，臺積電又落后了，不知道臺積電會不會也將第二代3nm工藝改成2nm，不搞什么3NX之類的了？

現(xiàn)在的晶圓廠，還有老實人么？換個思路，如果中芯將14nm也改成7nm，或5nm、3nm這樣行不行？是不是意味著我們也不落后了？